技术博客

在CVPR 2025上，西湖大学等机构宣布了一项名为StyleStudio的技术突破。该技术在风格迁移领域取得了重大进展，解决了风格过拟合、文本对齐不准确和图像生成不稳定三大问题。通过跨模态自适应归一化（AdaIN）整合文本与风格特征，利用教师模型稳定图像布局，并引入基于风格的无分类器引导机制，实现了对风格元素的精确控制及生成图像质量与稳定性的提升。此外，StyleStudio无需额外训练，降低了使用门槛，使风格迁移技术更易于应用。