技术博客

西湖大学等机构在CVPR 2025上宣布了一项名为StyleStudio的重大技术突破。该技术通过跨模态AdaIN技术，有效整合文本和风格特征，解决了风格迁移中的过拟合、文本对齐不准确及图像不稳定问题。StyleStudio采用教师模型稳定图像布局，并引入基于风格的无分类器引导，实现对风格元素的精确控制，提升了生成图像的质量与稳定性。此外，StyleStudio无需额外训练，降低了使用门槛，使风格迁移技术更易于应用。